國內雖然已經完成了光刻機的生產，但在它的性能與技術上還落后于西方發達國家，還需要不斷的提高提高光刻機性能的關鍵技術是它未來發展的重點，這種機器將圖形從掩膜上復制到硅片是的主要參數決定了它的性能。現在市場上的光刻機三大性能參數是光刻分辨率和套刻精度以及產率，但在未來這些參數已經不能滿足市場的需要，要對它的光刻技術步入更小的節點，會提高它的精確度，它的產率也需要進一步提高，只有這樣才能提高集成電路制造廠商的經濟效益。

　　光刻機生產廠家要做到未雨綢繆，在生產線有關和街道前提下，還要對下一代光合技術進行研究，現在大規模的集成電路生產主流，光合技術仍然是光系列光刻技術單隨著它的高速發展季末時光刻技術的出現，會使光學光刻技術延伸到45微米甚至更小的節點以內，根據科學人員的預測，下一代光刻技術的主要候選者，應該是機子外光刻技術和納米壓印技術，以及無掩膜的光刻技術。

　　現在那些性能比較先進的光刻機已經使用了紫外光刻技術，這種技術在世界范圍內也備受關注，它是有可能實現量產化要求的一種技術，它使用波長為13.5的紫外光，能完成對很多電子元件的生產，而且所有材料對這個波段的光都有很強的吸收能力，但現在這種技術的研究還面臨著一些難題，低缺陷密度掩模的制備，高輸出功率、長壽命紫外光源的研發，反射式投影光學系統中污染的有效控制等問題都沒有得到有效的解決，想讓它實現量產還需要等待一段時間。

　　國內的光刻機雖然起步比較晚，但專業人才很多，一直在努力研發，載德半導體技術有限公司是國內出產光刻機的重要廠家，技術水平處于同行業的前列，有自己的研發團隊，他們出產的光刻機獲得了客戶的認可，對紫外光刻技術有了深了的研究，等這種技術實現量產以后，光刻機的新潮流，會帶動整個行業有大的發展。光刻機未來發展可期，是值得人們努力研究和開發的一個行業，有著美好的未來與明天，是以后幾十年發展的高科技重心，它的應用與推廣能為社會創造更多的價值與財富，也會能科學技術的發展注入新的力量。